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申请/专利权人：三星显示有限公司;三星电子株式会社
摘要：公开了多波束曝光装置的校正方法和多波束曝光装置，所述校正方法可以包括：生成第一函数，第一函数是由多个波束之中的边缘波束的灰度级表达的图案的尺寸的根据与边缘波束相邻的第二波束的变化量；获取第二函数，第二函数是由第一函数、边缘波束的灰度级和CD的偏差量的根据多个波束中的每个的变化量表达的CD的偏差量；通过根据其中多个波束被不同地组合的多波束组合将所有第二函数相加来生成矩阵方程；通过测量CD的偏差量来导出矩阵方程的解；以及通过利用矩阵方程的解来导出多个波束中的每个的最优剂量。
主权项：1.多波束曝光装置的校正方法，所述校正方法包括：生成第一函数，所述第一函数是由多个波束之中的边缘波束的灰度级表达的图案的尺寸的根据与所述边缘波束相邻的第二波束的变化量；获取第二函数，所述第二函数是由所述第一函数、所述边缘波束的所述灰度级和关键尺寸的偏差量的根据所述多个波束中的每个的变化量表达的所述关键尺寸的所述偏差量；根据其中所述多个波束被不同地组合的多波束组合，通过将所有所述第二函数相加来生成矩阵方程；通过测量所述关键尺寸的所述偏差量来导出所述矩阵方程的解；通过利用所述矩阵方程的所述解来导出所述多个波束中的每个的最优剂量；以及通过利用所述多个波束中的每个的所述最优剂量来单独地校正所述多波束曝光装置的所述多个波束中的每个的剂量。
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百度查询： 三星显示有限公司 三星电子株式会社 多波束曝光装置的校正方法及多波束曝光装置
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