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申请/专利权人：昕诺飞控股有限公司

摘要：在实施例中，本发明提供了一种光生成系统1000，包括第一光生成设备100、第一发光材料210和第二发光材料220，其中：A第一光生成设备110被配置为生成第一设备光111，其中第一光生成设备110包括选自超发光二极管和激光器的组的第一光源10；B第一发光材料210包括线吸收器和线发射器发光材料，该线吸收器和线发射器发光材料在用第一设备光111激发时提供包括第一发光材料发射211，该第一发光材料发射包括第一波长λL,1处的线发射；C第二发光材料220包括宽带发射器发光材料，该宽带发射器发光材料在用第一设备光111激发时提供包括宽带发射的第二发光材料发射221，其中第二发光材料发射221具有第二质心波长λLC,2，其中|λL,1‑λLC,2|≤20nm；D第一光生成设备110被配置为用第一设备光111泵浦第一发光材料210和第二发光材料220中的一种或多种；并且E光生成系统1000被配置为生成系统光1001，该系统光包括第一发光材料发射211和第二发光材料发射221中的一项或多项。

主权项：1.一种光生成系统1000，包括第一光生成设备100、第一发光材料210和第二发光材料220，其中：所述第一光生成设备110被配置为生成第一设备光111，其中所述第一光生成设备110包括选自超发光二极管和激光器的组的第一光源10；所述第一发光材料210包括线吸收器和线发射器发光材料，所述线吸收器和线发射器发光材料在用所述第一设备光111激发时提供第一发光材料发射211，所述第一发光材料发射211包括第一波长λL,1处的线发射；所述第二发光材料220包括宽带发射器发光材料，所述宽带发射器发光材料在用所述第一设备光111激发时提供包括宽带发射的第二发光材料发射221，其中所述第二发光材料发射221具有第二质心波长λLC,2，其中|λL,1-λLC,2|≤20nm；所述第一光生成设备110被配置为用所述第一设备光111泵浦所述第一发光材料210和所述第二发光材料220中的一种或多种；并且所述光生成系统1000被配置为生成系统光1001，所述系统光包括所述第一发光材料发射211和所述第二发光材料发射221中的一项或多项。

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