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半导体器件制造方法及半导体器件 

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申请/专利权人:成都高投芯未半导体有限公司

摘要:本申请提供了一种半导体器件制造方法及半导体器件,其中,该方法包括:将晶圆基座上的目标区域进行减薄,在目标区域上布设粘贴材料,将待制程晶圆附着至粘贴材料上,并对待制程晶圆进行制程,得到待用晶圆。本申请通过在目标区域布设粘贴材料,从而避免出现晶圆卷翘、晶圆形状及厚度发生变化等现象,以及破片等问题,并利用晶圆基座作为基础,对待制程晶圆进行制程,从而达到不需要引用适应待制程晶圆尺寸的晶圆线设备,也可以实现晶圆制造的效果,进而解决半导体器件制程与晶圆制造设备之间无法兼容的问题。

主权项:1.一种半导体器件制造方法,其特征在于,包括:将晶圆基座上的目标区域进行减薄;在所述目标区域上布设粘贴材料;将待制程晶圆附着至所述粘贴材料上,并对所述待制程晶圆进行制程,得到待用晶圆。

全文数据:

权利要求:

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