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申请/专利权人：杭州广立微电子股份有限公司
摘要：本申请涉及一种集成电路后仿真版图生成方法、装置和可读存储介质，其中，该集成电路后仿真版图生成方法包括：通过获取原始版图，确定原始版图中的目标器件；获取原始版图中目标器件的每个引脚的绕线结构，并根据绕线结构生成第一版图文件；获取原始版图中包含目标器件所有引脚的前中段层在内的目标区域，根据目标区域生成第二版图文件；将第一版图文件和第二版图文件进行合并，得到目标器件的后仿真版图，通过本申请，解决了在后仿真过程中由于获取的金属走线不全导致后仿真精度低，以及后仿真参数网表提取效率低，提高了后仿真精度和后仿真参数网表的提取效率。
主权项：1.一种集成电路后仿真版图生成方法，其特征在于，包括：获取原始版图，确定所述原始版图中的目标器件；获取所述原始版图中所述目标器件的每个引脚的绕线结构，并根据所述绕线结构生成第一版图文件；获取所述原始版图中包含所述目标器件所有引脚的前中段层在内的目标区域，根据所述目标区域生成第二版图文件；将所述第一版图文件和所述第二版图文件进行合并，得到所述目标器件的后仿真版图。
全文数据：
权利要求：
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