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低涡流超高真空腔室的制作方法及真空腔室结构 

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申请/专利权人:中国科学院近代物理研究所

摘要:本发明涉及低涡流超高真空腔室的制作方法及真空腔室结构,其中方法包括:通过管道主体模具对管道管材挤出成型;通过法兰模具对方形法兰板材挤出成型;将成型的管道管材与方形法兰板材进行热处理;对热处理后的管道管材和方形法兰板材进行精加工,形成管道和法兰;制作镶嵌环,以使其的形状与法兰内孔和管道内外壁的形状相适应;将精加工后的管道和法兰进行零部件清洗;通过模压成型模具将清洗后的管道的两端分别与对应法兰及镶嵌环进行高压热熔模压成型,形成真空腔室整体结构。本发明能够解决粒子加速器中真空室的涡流效应。

主权项:1.一种低涡流超高真空腔室的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:通过管道主体模具对管道管材挤出成型;通过法兰模具对方形法兰板材挤出成型;将成型的管道管材与方形法兰板材进行热处理;对热处理后的管道管材和方形法兰板材进行精加工,形成管道和法兰;制作镶嵌环,以使其的形状与法兰内孔和管道内外壁的形状相适应;将精加工后的管道和法兰进行零部件清洗;通过模压成型模具将清洗后的管道的两端分别与对应法兰及镶嵌环进行高压热熔模压成型,形成真空腔室整体结构。

全文数据:

权利要求:

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