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申请/专利权人：常州市常超电子研究所有限公司
摘要：本发明涉及超声探头技术领域，尤其是涉及一种基于衍射与反射联合法应用于核压力容器的超声探头，包括屏蔽外壳、楔块、压电晶片、匹配层、罩壳、吸声块以及连接头，楔块安装在屏蔽外壳内，楔块底面具有用于与核压力容器接触的探测面，楔块顶面具有呈倾斜状态的安装面，压电晶片布置在安装面上，压电晶片具有瓦形曲面，压电晶片的瓦形凸面朝向探测面，安装面上凹陷形成有安装槽，安装槽与压电晶片的瓦形凸面相匹配，压电晶片布置在安装槽内；连接头安装在屏蔽外壳上，压电晶片的凸面和凹面分别通过引线和连接头连接，采用瓦形曲面的压电晶片结构，可同时可获得横波、纵波和爬波，进而实现核反应堆压力容器超厚工件焊缝缺陷检测及精准定位。
主权项：1.一种基于衍射与反射联合法应用于核压力容器的超声探头，其特征在于，包括屏蔽外壳1、楔块2、压电晶片3、匹配层4、罩壳5、吸声块6以及连接头7，所述楔块2安装在屏蔽外壳1内，所述楔块2底面具有用于与核压力容器接触的探测面21，所述楔块2顶面具有呈倾斜状态的安装面22，所述压电晶片3布置在安装面22上，所述压电晶片3具有瓦形曲面，所述压电晶片3的瓦形凸面朝向探测面21，所述安装面22上凹陷形成有安装槽1，所述安装槽1与压电晶片3的瓦形凸面相匹配，所述压电晶片3布置在安装槽1内；所述匹配层4位于压电晶片3和楔块2之间，所述匹配层4一侧和压电晶片3固定来粘结，另一侧和安装槽1固定连接；所述罩壳5安装在楔块2的安装面22上，且所述罩壳5罩设住压电晶片3；所述吸声块6填充在罩壳5内，且所述吸声块6覆盖所述压电晶片3；所述连接头7安装在屏蔽外壳1上，所述压电晶片3的凸面和凹面分别通过引线和连接头7连接。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 常州市常超电子研究所有限公司 基于衍射与反射联合法应用于核压力容器的超声探头
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