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可扩展量子比特结构及其制备方法 

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申请/专利权人:中国科学技术大学

摘要:一种可扩展量子比特结构及制备方法,结构包括:基片100,其上形成有阵列排布的矩形槽102,矩形槽102两侧生长有定位型自组织锗硅纳米线103,定位型自组织锗硅纳米线103的位置及尺寸可控;源漏电极设于定位型自组织锗硅纳米线103的两端;源漏外围大电极300,连接源漏电极;绝缘层400,其形成在源漏外围大电极300上方,绝缘层400上形成有分立的电荷感应量子点顶层金属栅极401与被探测量子点顶层金属栅极402;顶层外围大电极500,连接顶层金属栅极。该量子比特结构的空穴量子自旋比特拥有更长的相干时间,有利于量子比特结构的扩展,且测量方式属于非破坏性测量,灵敏度高。

主权项:1.一种可扩展量子比特结构,其特征在于,包括:基片(100),其上形成有阵列排布的矩形槽(102),所述矩形槽(102)两侧生长有定位型自组织锗硅纳米线(103),所述定位型自组织锗硅纳米线(103)的位置及尺寸可控;电荷感应量子点源极(301)及电荷感应量子点漏极(302),其分别设于一所述定位型自组织锗硅纳米线(103)的两端;被探测量子点源极(303)及被探测量子点漏极(304),其分别设于与该定位型自组织锗硅纳米线(103)相邻的定位型锗硅纳米线(103)两端;源漏外围大电极300,与电荷感应量子点源极(301)、电荷感应量子点漏极(302)、被探测量子点源极(303)及被探测量子点漏极(304)一一对应,分别与电荷感应量子点源极(301)、电荷感应量子点漏极(302)、被探测量子点源极(303)及被探测量子点漏极(304)的尖端相连;绝缘层(400),其形成在所述源漏外围大电极(300)上方,所述绝缘层(400)上形成有分立的电荷感应量子点顶层金属栅极(401)与被探测量子点顶层金属栅极(402),所述电荷感应量子点顶层金属栅极(401)设于所述电荷感应量子点源极(301)与所述电荷感应量子点漏极(302)之间,所述被探测量子点顶层金属栅极(402)设于被探测量子点源极(303)及被探测量子点漏极(304)之间;顶层外围大电极(500),连接所述电荷感应量子点顶层金属栅极(401)及所述被探测量子点顶层金属栅极(402)。

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