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申请/专利权人：PDF决策公司
摘要：自动地限定窗以进行踪迹分析。针对每一个工艺步骤，将踪迹数据与所述工艺步骤的开端和所述工艺步骤的末尾对准，并且从所述工艺步骤的所述开端和所述工艺步骤的所述末尾计算包括改变率在内的统计资料。基于对所述所计算统计资料的分析来生成窗。
主权项：1.一种用于进行自动窗限定以分析半导体装备踪迹数据的方法，所述方法包括：在半导体工艺的多个工艺步骤期间从多个装备传感器接收多个传感器踪迹；针对所述多个工艺步骤中的每一个相应步骤：将每一个传感器踪迹与所述相应步骤的开端对准；执行第一组统计计算，包括计算与所述相应步骤的所述开端对准的每一个传感器踪迹的第一改变率；将每一个传感器踪迹与所述相应步骤的末尾对准；以及执行第二组统计计算，包括计算与所述相应步骤的所述末尾对准的每一个传感器踪迹的第二改变率；以及基于针对所述多个传感器踪迹中的每一者所计算的所述第一组统计计算和所述第二组统计计算来限定多个窗以在每一个窗中界定并分析所述传感器踪迹，其中限定多个窗包括限定所述传感器踪迹在其中快速改变的转变窗和所述传感器踪迹在其中稳定的稳定窗。
全文数据：
权利要求：
百度查询： PDF决策公司 工艺踪迹的自动窗生成
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