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一种外延用晶片转运装置及晶片转运方法 

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申请/专利权人:山东天岳先进科技股份有限公司

摘要:本发明为一种外延用晶片转运装置及晶片转运方法,属于半导体材料制造领域。其技术方案为,一种外延用晶片转运装置,包括吸盘主体,所述吸盘主体包括托板和盖板,托板与盖板之间间隔一定距离并形成容纳腔,容纳腔的前端开放,容纳腔的后部开设进气口,进气口用于连接气源并向容纳腔中喷气;托板或盖板上还设有晶片吸附结构。本方案的有益效果为,设计了一种吸盘结构,吸盘具有容纳晶片的容纳腔,通过吸附结构将晶片吸附在容纳腔内表面,然后通过进气口向容纳腔内部通气以形成正压空间,防止外部灰尘进入容纳腔,显著提高了晶片转运过程中的防尘能力,能够提高晶片外延层的生成质量。

主权项:1.一种外延用晶片转运装置,包括吸盘主体,其特征在于,所述吸盘主体包括托板(1)和盖板(2),托板(1)与盖板(2)之间间隔一定距离并形成容纳腔,容纳腔的前端开放,容纳腔的后部开设进气口(6),进气口用于连接气源并向容纳腔中喷气;托板(1)或盖板(2)上还设有晶片吸附结构。

全文数据:

权利要求:

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