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申请/专利权人：湖北鼎龙控股股份有限公司;鼎龙(潜江)新材料有限公司;湖北鼎龙芯盛科技有限公司
摘要：本发明公开了涉及材料技术领域，具体地说，涉及一种鎓盐类化合物、光致产酸剂、包含其的光致抗蚀剂组合物。该鎓盐类化合物为由阴离子和阳离子组成的盐，所述阳离子为硫鎓阳离子或碘鎓阳离子；所述阴离子通式如式B所示：式B中，R1、R2、R3各自独立地为R41、R42、R43、R44各自独立的为氢原子、氟原子或氟代烷基，R41、R42、R43、R44中至少两个为含氟基团，n为4～8之间的任意整数。本发明提供鎓盐类化合物用作光致产酸剂可以满足目前对高分辨率抗蚀图案的需求，包括图案低线宽粗糙度LWR和更小的线条图案掩模误差增强因子MEEF，MEEF是掩膜保真度的指标。
主权项：1.一种鎓盐类化合物，其特征在于，为由阴离子和阳离子组成的盐，所述阴离子通式如式B所示： 式B中，R1、R2、R3各自独立地为R41、R42、R43、R44各自独立的为氢原子、氟原子或氟代烷基，R41、R42、R43、R44中至少两个为含氟基团，n为4～8之间的任意整数；所述阳离子为硫鎓阳离子或碘鎓阳离子。
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百度查询： 湖北鼎龙控股股份有限公司 鼎龙(潜江)新材料有限公司 湖北鼎龙芯盛科技有限公司 鎓盐类化合物、光致产酸剂、包含其的光致抗蚀剂组合物
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