龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：本发明涉及一种用于浸没光刻设备中的衬底台，所述衬底台具有限定用于支撑待图案化的衬底的支撑平面的支撑区域和围绕所述支撑区域的上表面，其中：所述上表面包括大致平面的外部区和邻近于所述支撑区域的过渡区；并且所述过渡区是与所述外部区不共面的以便改善所述外部区与非标准衬底之间的水平过渡，所述非标准衬底具有不同于所述支撑平面与由所述外部区限定的名义平面之间的距离的厚度。
主权项：1.一种用于浸没光刻设备中的衬底台，所述衬底台具有限定用于支撑待图案化的衬底的支撑平面的支撑区域和围绕所述支撑区域的上表面，其中：所述上表面包括大致平面的外部区和邻近于所述支撑区域的过渡区；并且所述过渡区是与所述外部区不共面的以便改善所述外部区与非标准衬底之间的水平过渡，所述非标准衬底具有不同于所述支撑平面与由所述外部区限定的名义平面之间的距离的厚度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 衬底台、光刻设备、粘贴件、覆盖环、和操作光刻设备的方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号