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申请/专利权人：豪雅株式会社
摘要：本发明提供一种掩模板、转印用掩模、转印用掩模的制造方法及显示装置的制造方法，满足针对包含紫外线区域的波长的曝光光的高耐光性的要求。一种掩模板，其在透光性基板上具备图案形成用的薄膜，所述薄膜含有过渡金属和硅，通过X射线吸收光谱法取得的所述薄膜的X射线吸收光谱在X射线的入射能量为400eV以上且402eV以下的范围内具有边前结构。
主权项：1.一种掩模板，其在透光性基板上具备图案形成用的薄膜，其特征在于，所述薄膜含有过渡金属和硅，通过X射线吸收光谱法取得的所述薄膜的X射线吸收光谱在入射X射线能量为400eV以上且402eV以下的范围具有边前结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 豪雅株式会社 掩模板、转印用掩模、转印用掩模的制造方法及显示装置的制造方法
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