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一种互补J-FET氮化镓反相器及其制备方法和电源适配器 

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申请/专利权人:深圳大学

摘要:本发明公开了一种互补J‑FET氮化镓反相器及其制备方法和电源适配器,涉及半导体器件技术领域,所述互补J‑FET氮化镓反相器的制备方法包括:提供一衬底;在所述衬底的一侧设置n‑GaN层以及p‑GaN层,所述n‑GaN层以及p‑GaN层均叠设于所述衬底上;在所述n‑GaN层内部的两个局部区域设置两个内嵌式p‑GaN层,在所述p‑GaN层内部的两个局部区域设置两个内嵌式n‑GaN层。其中,将n‑GaN层内嵌于p‑GaN层内部且将p‑GaN层内嵌于n‑GaN层内部,在相同的沟道长度下,使得沟道宽度进一步提升,降低了功耗;同时缩小了沟道的长度,提高了反相器的集成度。

主权项:1.一种互补J-FET氮化镓反相器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S10、提供一衬底;S20、在所述衬底的一侧设置n-GaN层以及p-GaN层,所述n-GaN层以及p-GaN层均叠设于所述衬底上;S30、在所述n-GaN层内部的两个局部区域设置两个内嵌式p-GaN层,在所述p-GaN层内部的两个局部区域设置两个内嵌式n-GaN层。

全文数据:

权利要求:

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