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申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方显示科技有限公司
摘要：本发明提供一种阵列基板的制作方法及阵列基板，制作方法包括：提供阵列基板，所述阵列基板包括设置在衬底基板上的扫描线和数据线，所述扫描线和所述数据线交叉设置并限定出多个像素区；沉积透明导电薄膜形成透明导电薄膜，在所述透明导电薄膜上涂布光刻胶并进行曝光、显影和检查；通过光刻工艺去除所述待加工区域的光刻胶和透明导电薄膜，所述待加工区域位于所述像素区的边缘；对除所述待加工区域外的所述透明导电薄膜进行刻蚀，形成分别位于所述像素区内且互不连通的多个像素电极。本发明提供一种阵列基板的制作方法及阵列基板，可以有效改善像素间的短路缺陷。
主权项：1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：提供阵列基板，所述阵列基板包括设置在衬底基板上的扫描线和数据线，所述扫描线和所述数据线交叉设置并限定出多个像素区；沉积透明导电薄膜形成透明导电薄膜；在所述透明导电薄膜上涂布光刻胶并进行曝光、显影后，对像素区之间的区域进行检查，确定存在光刻胶残留的待加工区域；通过镭射工艺去除所述待加工区域的光刻胶和透明导电薄膜；对除所述待加工区域外的所述透明导电薄膜进行刻蚀，形成分别位于所述像素区内且互不连通的多个像素电极。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 京东方科技集团股份有限公司 成都京东方显示科技有限公司 阵列基板的制作方法及阵列基板
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