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申请/专利权人：纳晶科技股份有限公司
摘要：本发明公开了薄膜干燥方法、薄膜干燥装置以及包括薄膜的器件，其中薄膜干燥方法包括以下步骤：S1，将表面具有湿膜的基板置于干燥装置的容器内，容器内的初始气压为P1，初始温度为T1；S2，对容器内进行加压，然后升高容器内的温度，使得容器内的气压增加至P2，温度升高至T2；S3，使容器内的气压由P2逐渐降至P3，P3小于P1，并使容器内的气压在P3下保持时间t。本发明通过先加压后减压的方式达到控制溶剂挥发速率的目的，在干燥初期，湿膜中的溶剂残留量最高，此时通过加压来限制溶剂的挥发速率，在干燥中期，通过逐步减压的方式促使溶剂逐渐挥发。本发明使得膜层均匀干燥，有利于获得致密性、平整性好的膜层。
主权项：1.一种薄膜干燥方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，将表面具有湿膜的基板置于干燥装置的容器内，所述容器内的初始气压为P1，初始温度为T1；S2，对所述容器内进行加压，然后升高所述容器内的温度，使得所述容器内的气压增加至P2，温度升高至T2；所述步骤S2中，向所述容器内充入第一加压气体以及第二加压气体，使所述容器内的气压增加至P2，所述第一加压气体为空气或惰性气体，所述第二加压气体为有机溶剂的饱和蒸气，所述有机溶剂为所述湿膜的溶剂中的一种或多种的混合；S3，使所述容器内的气压由P2逐渐降至P3，P3＜P1，并使所述容器内的气压在P3下保持时间t；所述步骤S3中，所述容器内的气压先由P2降至P1，然后由P1降至P3，所述气压由P2降至P1阶段的降压速率为0.01bars～10bars，所述气压由P1降至P3阶段的降压速率为10-5bars～10-1bars。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 纳晶科技股份有限公司 薄膜干燥方法、薄膜干燥装置以及包括薄膜的器件
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