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申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本实用新型公开了一种用于薄膜沉积的气路切换装置和薄膜沉积设备，通过主管路可以连接气源，第一支管路和第二支管路的其中一者作为输气管路用来与工艺腔室连接，另一者则作为分流管路以与真空泵或储气罐等其他部件进行连接，在第一支管路上设置第一阀门和在第二支管路上设置的第二阀门能够相应控制管路的导通或截止，以便于控制输入工艺腔室内的气体的通断，其中，由于在流阻比较小的第一支管路上设置了调节器件来改变流阻以使得第一支管路内的气压和第二支管路相同，这样一来，在由输气管路切换至分流管路后，输气管路中位于阀门上游侧的气压也不会变化，以保证由分流管路切换回输气管路后输气管路内的气流量不会发生突变，气流稳定。
主权项：1.一种用于薄膜沉积的气路切换装置，其特征在于，包括主管路10以及连接于所述主管路10的第一支管路20和第二支管路30，所述第一支管路20和所述第二支管路30的其中一者作为输气管路、另一者作为分流管路，所述第一支管路20设置有能够导通或截止的第一阀门21，所述第二支管路30设置有能够导通或截止的第二阀门31，所述第一支管路20的流阻小于所述第二支管路30的流阻，所述第一支管路20上设置有调节器件，所述调节器件用于改变所述第一支管路20的流阻，以使所述第一支管路20内的气压与所述第二支管路30内的气压相同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 用于薄膜沉积的气路切换装置和薄膜沉积设备
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