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申请/专利权人：拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
摘要：本申请涉及晶圆薄膜沉积技术领域，具体公开了一种薄膜沉积设备，包括真空腔室以及UV灯箱；所述UV灯箱通过滑动组件与所述真空腔室连接；所述真空腔室上设置有水平的第一平台；所述滑动组件安装在所述第一平台上，所述真空腔室侧壁上开设有位于所述滑动组件延伸路径上的透光窗口；所述UV灯箱受驱在所述滑动组件上移动，所述UV灯箱与所述透光窗口位置对应，所述UV灯箱可通过所述透光窗口向所述真空腔室内部投射光线。本申请能够使得UV灯箱便于移动，使得工作人员可快速操作，大大减轻工作人员的工作强度，另外能够缓解磨损污染物的产生，有利于工艺质量的改善。
主权项：1.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包括真空腔室以及UV灯箱；所述UV灯箱通过滑动组件与所述真空腔室连接；所述真空腔室上设置有水平的第一平台；所述滑动组件安装在所述第一平台上，所述真空腔室侧壁上开设有位于所述滑动组件延伸路径上的透光窗口；所述UV灯箱受驱在所述滑动组件上移动，所述UV灯箱与所述透光窗口位置对应，所述UV灯箱可通过所述透光窗口向所述真空腔室内部投射光线。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司 薄膜沉积设备
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