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申请/专利权人：株式会社理光
摘要：本发明涉及质谱分析方法。本发明的课题在于，提供精度良好地能定量的质谱分析方法。本发明的质谱分析方法向配置在测定试样表面的质谱分析用基质点照射激光束，进行质谱分析，其包括照射所述激光束的激光束照射工序，在向所述质谱分析用基质点照射所述激光束时，在所述测定试样出现的激光点A全部收纳在所述质谱分析用基质点，或者B将所述质谱分析用基质点全部收纳。
主权项：1.一种质谱分析方法，包括：1制备测定试样，包括：将配置有基质的基质板设置在测定试样上，使得所述基质板的配置有所述基质的一面与所述测定试样对置，以及施加激光束至所述基质板的不是配置有所述基质的那面的一面，使得所述基质飞向并且被设置在所述测定试样的那面，形成基质点，其中用于形成所述基质点的所述激光束是光涡旋激光束或均热照射激光束；2向配置在所述测定试样的表面的所述基质点照射激光束，进行质谱分析，其特征在于:包括照射所述激光束的激光束照射工序，在向所述基质点照射所述激光束时，在所述测定试样出现的激光点A全部激光点收纳在所述质谱分析用基质点的范围，或者B将所述质谱分析用基质点全部收纳在激光点的范围。
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