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申请/专利权人：三星电子株式会社
摘要：提供了一种从源容器去除残留物的设备，所述设备包括框架部分以及框架部分上的加热器结构，该加热器结构具有：框架部分上的头部，该头部在至少一个轴向上可旋转，以及头部上的加热器，其朝着源容器中的残留物散热，加热器施加200℃至800℃的温度。
主权项：1.一种用于从极紫外光刻装置中的源容器中去除残留物的设备，所述设备包括：框架部分；以及所述框架部分上的加热单元，所述加热单元包括：所述框架部分上的头部，所述头部在至少一个轴向上可旋转，并且所述头部朝着所述框架部分可折叠，以及所述头部上的加热构件，其朝着所述源容器中的残留物散发热，所述加热构件施加200℃至800℃的温度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 从源容器去除残留物的设备
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