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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：一种化学机械抛光的方法包括：使基板的导电层与抛光垫接触；将抛光液供应到抛光垫；使基板与抛光垫之间产生相对运动；在抛光导电层时用原位电磁感应监测系统监测基板以产生取决于导电层的厚度的信号值序列；以及基于信号值序列来确定导电层的厚度值序列。确定厚度值序列包括至少部分地补偿抛光液对信号值的贡献。
主权项：1.一种化学机械抛光的方法，包括：使基板的导电层与抛光垫接触；将抛光液供应到所述抛光垫；使所述基板与所述抛光垫之间产生相对运动；在抛光所述导电层时在存在所述抛光液的情况下用原位电磁感应监测系统监测所述基板以产生取决于所述导电层的厚度和所述抛光液的组成的信号值序列；以及基于所述信号值序列来确定所述导电层的厚度值序列，其中确定所述厚度值序列包括至少部分地补偿所述抛光液对所述信号值的贡献，其中所述贡献来自所述抛光液对由涡流感测器产生的穿过所述抛光液的层的磁场的改变。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 在原位电磁感应监测中对浆料组成的补偿
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