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申请/专利权人:ASMIP私人控股有限公司
摘要:本文公开了一种半导体处理设备,该半导体处理设备包括歧管,该歧管包括配置为将气体输送到反应室的孔,歧管包括安装到第二块体的第一块体,第一和第二安装的块体协作以至少部分地限定孔。歧管还可以包括围绕第一块体或第二块体设置的绝热体盖。半导体处理设备可以包括安装到第二块体的至少三个阀块体,从而防止前体回流。加热器棒可以穿过第二块体延伸到邻近第一块体的位置。
主权项:1.一种半导体处理设备,其特征在于,包括:歧管,包括:配置成将气体输送到反应室的孔;安装到第二块体的第一块体,第一和第二块体协作以至少部分地限定孔;供应通道,其提供气体源和孔之间的流体连通,供应通道至少部分地设置在第二块体中;以及位于歧管的下部并与孔连通的出口;和围绕第一块体设置的绝热体盖,该绝热体盖包括绝热材料。
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权利要求:
百度查询: ASMIP私人控股有限公司 半导体处理设备
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