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申请/专利权人：光科芯图(北京)科技有限公司
摘要：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种全息掩模版图的生成方法及生成装置，其中，全息掩模版图的生成方法应用于非相干光的衍射过程，包括：获取预设样品的第一振幅信息，基于第一振幅信息计算第一相位信息；基于第一相位信息得到初始掩模版图；推导非相干光从初始掩模版图到对应的光刻平面上的衍射结果以获取第二振幅信息和第二相位信息，对第二振幅信息施加第一约束值进行约束处理，并反推得到处理后的中间掩模版图；根据中间掩模版图的第三相位信息判定：当第三相位信息达到目标相位时，将中间掩模版图输出为目标全息掩模版图。可以理解的，本发明将光源范围推广到非相干光源，解决了现有的全息掩模生成方法仅能适用于相干光源的问题。
主权项：1.一种全息掩模版图的生成方法，应用于非相干光的衍射过程，其特征在于，包括：获取预设样品的第一振幅信息，基于所述第一振幅信息计算第一相位信息；基于第一相位信息得到初始掩模版图；推导非相干光从初始掩模版图到对应的光刻平面上的衍射结果以获取第二振幅信息和第二相位信息，对所述第二振幅信息施加第一约束值进行约束处理，并反推得到处理后的中间掩模版图；根据所述中间掩模版图的第三相位信息判定：当所述第三相位信息达到目标相位时，将所述中间掩模版图输出为目标全息掩模版图。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 光科芯图(北京)科技有限公司 一种全息掩模版图的生成方法及生成装置
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