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申请/专利权人：光科芯图(北京)科技有限公司
摘要：本发明涉及相位恢复技术领域，特别涉及一种相位掩模生成方法、装置及存储介质，包括以下步骤：获取预设目标物的第一光场信息，对所述第一光场信息进行衍射推导，得到预设掩模板平面的第二光场信息；基于所述第二光场信息获得所述预设掩模板平面的相位信息；对相位信息进行更新得到相位全息掩模版图，对预设掩模板平面的相位信息进行更新可以实现在迭代过程中将所有像素点的相位值进行更新从而改善成像质量，并且可以自适应地更新相位信息，根据当前的误差情况进行调整，从而可以精确地找到最优解，减少相位恢复的时间，解决现有存在生成的图像质量较低的问题。
主权项：1.一种相位掩模生成方法，其特征在于：包括以下步骤：获取预设目标物的第一光场信息；对所述第一光场信息进行衍射推导，得到预设掩模板平面的第二光场信息；基于所述第二光场信息获得所述预设掩模板平面的相位信息；对相位信息进行更新得到相位全息掩模版图。
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百度查询： 光科芯图(北京)科技有限公司 一种相位掩模生成方法、装置及存储介质
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