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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社
摘要:本发明的基片处理装置包括:从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴;对液喷嘴的释放口的附近的全周进行拍摄的拍摄部;和控制部,控制部执行:图像获取控制,其获取在拍摄部中拍摄到的液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像;和评价控制,其根据液喷嘴的释放口附近的全周的检查图像,进行附着物在液喷嘴的释放口的附着状态的评价。
主权项:1.一种基片处理装置,其特征在于,包括:从释放口对下方的基片释放处理液的液喷嘴;对所述液喷嘴的所述释放口的附近进行拍摄的拍摄部;和控制部,所述控制部执行获取在所述拍摄部中拍摄到的所述液喷嘴的释放口附近的检查图像的控制,所述拍摄部具有多个摄像机,所述多个摄像机在周向上均等地配置于所述液喷嘴的所述释放口的附近。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 东京毅力科创株式会社 基片处理装置、喷嘴检查方法和存储介质
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