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申请/专利权人：上海积塔半导体有限公司
摘要：本发明涉及一种用于从半导体制造工艺中产生的废液的再生处理系统，包括：第一再生处理分支，包括第一过滤装置，所述第一过滤装置被配置成接纳从半导体制造工艺中产生的废液并且对所述废液进行固液分离；第二再生处理分支，包括第一分离装置、尤其是化学过滤装置，所述第一分离装置被配置成接纳经固液分离而分离出的液体并且对分离出的液体进行酸性物质或碱性物质的分离；和第三再生处理分支，包括去离子水处理装置，所述去离子水处理装置被配置成接纳经酸性物质或碱性物质分离的液体并且对经酸性物质或碱性物质分离的液体进行去离子处理。此外，本发明涉及一种再生处理方法以及一种化学机械抛光系统。
主权项：1.一种用于从半导体制造工艺、尤其是化学机械抛光工艺中产生的废液的再生处理系统，其特征在于，所述再生处理系统包括：针对固体颗粒的第一再生处理分支，所述第一再生处理分支包括第一过滤装置，所述第一过滤装置被配置成接纳从半导体制造工艺中产生的废液并且对所述废液进行固液分离；针对酸性物质或碱性物质的第二再生处理分支，所述第二再生处理分支包括第一分离装置、尤其是化学过滤装置，所述第一分离装置被配置成接纳经固液分离而分离出的液体并且对分离出的液体进行酸性物质或碱性物质的分离；和针对去离子水的第三再生处理分支，所述第三再生处理分支包括去离子水处理装置，所述去离子水处理装置被配置成接纳经酸性物质或碱性物质分离的液体并且对经酸性物质或碱性物质分离的液体进行去离子处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海积塔半导体有限公司 用于从半导体制造工艺中产生的废液的再生处理系统和再生处理方法
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