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申请/专利权人：杭州众能光电科技有限公司
摘要：本发明涉及一种空间型原子层沉积吹扫调整结构及其控制方法，其包括吹扫刀片系统、挡板系统；吹扫刀片系统包括纵置吹扫刀片和横置吹扫刀片，所述横置吹扫刀片设置在所述纵置吹扫刀片的两端，所述纵置吹扫刀片包括第一纵置吹扫刀片和第二纵置吹扫刀片，其中第一纵置吹扫刀片为前驱体吹扫刀片，前驱体吹扫刀片与第二纵置吹扫刀片间隔设置；挡板系统包括驱动装置和挡板，所述挡板包括第一挡板和第二挡板，其中第一挡板移动设置于前驱体吹扫刀片的两外侧壁上，第二挡板移动设置于横置吹扫刀片的外侧壁上，所述第一挡板和第二挡板在沉积过程中下移防止气体逸散，能够有效提高气体覆盖的均匀性，有助于提高沉积薄膜的质量。
主权项：1.一种空间型原子层沉积吹扫调整结构，其特征在于：所述调整结构包括：吹扫刀片系统、挡板系统；其中，吹扫刀片系统包括纵置吹扫刀片和横置吹扫刀片，所述横置吹扫刀片设置在所述纵置吹扫刀片的两端，所述纵置吹扫刀片包括第一纵置吹扫刀片和第二纵置吹扫刀片，其中第一纵置吹扫刀片为前驱体吹扫刀片，前驱体吹扫刀片与第二纵置吹扫刀片间隔设置；所述前驱体吹扫刀片从左往右依次包括左前驱体A吹扫刀片、前驱体B吹扫刀片和右前驱体A吹扫刀片；挡板系统包括驱动装置和挡板，所述挡板包括第一挡板和第二挡板，其中第一挡板移动设置于前驱体吹扫刀片的两外侧壁上，第二挡板移动设置于横置吹扫刀片的外侧壁上，所述第一挡板和第二挡板在沉积过程中下移防止气体逸散。
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百度查询： 杭州众能光电科技有限公司 一种空间型原子层沉积吹扫调整结构及其控制方法
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