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申请/专利权人：光科芯图(北京)科技有限公司
摘要：本发明涉及光刻技术领域，特别涉及一种全息掩模生成方法、装置及存储介质，一种全息掩模生成方法包括：提供一预设样品，基于预设样品的振幅信息得到第一相位信息；基于第一相位信息生成初始全息掩模，对初始全息掩模进行优化得到优化后的光场信息；提供一目标参数，基于优化后的光场信息获取第二相位信息，得出第二相位信息与目标参数的误差系数，并将误差系数与预设值进行比较；若误差系数小于预设值，则基于第二相位信息输出目标全息掩模；否之则将第二相位信息替换为第一相位信息，迭代至生成初始全息掩模位置。解决了现有技术中相位掩模重建质量低的技术问题。
主权项：1.一种全息掩模生成方法，其特征在于，包括：提供一预设样品，基于预设样品的振幅信息得到第一相位信息；基于第一相位信息作为初始值生成初始全息掩模，对初始全息掩模进行优化得到优化后的光场信息；提供一目标参数，基于优化后的光场信息获取第二相位信息，获取第二相位信息与目标参数的误差系数，并将误差系数与预设值进行比较；若误差系数小于预设值，则基于第二相位信息输出目标全息掩模；否之则将第二相位信息作为迭代过程中新的初始值，迭代至生成初始全息掩模位置。
全文数据：
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百度查询： 光科芯图(北京)科技有限公司 一种全息掩模生成方法、装置及存储介质
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