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申请/专利权人：EV集团E·索尔纳有限责任公司
摘要：本发明涉及一种用于借助于光学系统对在基板上的由光敏材料18组成的光敏层19的像点1进行曝光的方法，该方法具有以下特征：‑使像点1相对于光学系统连续移动，‑借助于光学系统针对每个像点1的单曝光来单个地控制多个次级光束16，其方式是将次级光束16要么转入至开启状态中要么转入至关闭状态中，其中a次级光束16在开启状态中引起分配给相应的次级光束16的像点1的单曝光，并且b次级光束16在关闭状态中不引起分配给相应的次级光束16的像点1的单曝光，‑其中为了产生具有灰色调的像点1，由不同的次级光束16以单剂量D执行n1次单曝光，其中每个像点1的灰色调G由单剂量D的总和来定义。此外，本发明涉及一种对应的设备。
主权项：1.用于借助于光学系统对在基板6上的由光敏材料18组成的层19的像点1进行曝光的方法，该方法具有以下特征：-使像点1相对于光学系统连续移动，-借助于光学系统针对每个像点1的单曝光来单个地控制多个次级光束16，其方式是将次级光束16要么转入至开启状态中要么转入至关闭状态中，其中a次级光束16在开启状态中引起分配给相应的次级光束16的像点1的单曝光，并且b次级光束16在关闭状态中不引起分配给相应的次级光束16的像点1的单曝光，-其中为了产生具有灰色调的像点1，由不同的次级光束16以单剂量D执行n1次单曝光，其中每个像点1的灰色调G由单剂量D的总和来定义。
全文数据：
权利要求：
百度查询： EV集团E·索尔纳有限责任公司 用于像点曝光的方法和设备
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