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反射杯结构的制作方法、反射杯结构和半导体器件 

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申请/专利权人:闻泰通讯股份有限公司

摘要:本发明公开了一种反射杯结构的制作方法、反射杯结构和半导体器件,反射杯结构的制作方法包括:在玻璃基板上定义出金属BM黑矩阵层;在玻璃基板上均匀旋涂第一光阻层且覆盖金属BM层;将第一光阻层对应金属BM层的区域曝光显影出梯形结构;对梯形结构进行二次曝光脱色处理;通过电子束蒸镀在梯形结构表面沉积一层金属反射层;在金属反射层上均匀涂布第二光阻层;显影去除金属反射层有效反光区外的第二光阻层;对金属反射层有效反光区外的区域进行蚀刻,保留有效反光区所在区域的金属反射层。由此,不仅可以简化反射杯结构的制作流程,降低制作成本,而且可以在不增加额外工艺的前提下保证梯形结构不被破坏,使反射杯结构的制作流程更加可靠。

主权项:1.一种反射杯结构的制作方法,其特征在于,包括:在玻璃基板11上定义出金属BM黑矩阵层12;在所述玻璃基板11上均匀旋涂第一光阻层且覆盖所述金属BM层12;将所述第一光阻层对应所述金属BM层12的区域曝光显影出梯形结构;对所述梯形结构进行二次曝光脱色处理;通过电子束蒸镀在所述梯形结构表面沉积一层金属反射层14;在所述金属反射层14上均匀涂布第二光阻层;显影去除所述金属反射层14有效反光区外的第二光阻层;对所述金属反射层14有效反光区外的区域进行蚀刻,保留有效反光区所在区域的所述金属反射层14。

全文数据:

权利要求:

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