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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：描述了一种用于等离子体反应器的有源喷头。有源喷头包括多个基板层。基板层包括至少一个致动器和传送部件。致动器和传送部件通过气体通道耦合到气体管线。有源喷头还包括位于基板层下方的电极层。电极层与致动器和传送部件两者共用开口。致动器和传送部件使得从气体管线和气体通道接收的一种或多种工艺气体能流通进入开口，而不需要传统的气箱。
主权项：1.一种有源喷头，其包括：具有多个部分的隔膜层；位于所述隔膜层下方的阀座层，其中所述阀座层包括传送通道和气体通路；以及位于所述阀座层下方的气体分配层，其中所述气体分配层包括传送通道、气体接收室和通路通道，其中所述隔膜层的所述多个部分被配置成移动以允许从所述通路通道接收的一种或多种工艺气体经由所述气体接收室、所述气体通路和所述阀座层的所述传送通道流通至所述气体分配层的所述传送通道。
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