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申请/专利权人:华中科技大学
摘要:本申请属于极紫外计算光刻领域,具体公开了一种极紫外光刻部分相干成像建模方法、装置和电子设备,该方法包括:初始化极紫外照明光源;生成多个离散光源点,并获取多个离散光源点分别对应的平面波;将极紫外掩模版的吸收体划分为多个横截面,将平面波作为第一个横截面的光场,依次计算多个横截面的光场,获得吸收体输出光场;获得多层膜反射后的输出光场;将极紫外掩模版划分为多个横截面,将多层膜反射后的输出光场作为第一个横截面的光场,依次计算多个横截面的光场,获得极紫外掩模版散射近场;基于极紫外掩模版散射近场、低通滤波、离焦量、偏振像差、倾斜因子效应和放大倍率,获得空间像,以完成极紫外光刻部分相干成像建模。
主权项:1.一种极紫外光刻部分相干成像建模方法,其特征在于,包括:基于极紫外照明光源照明条件,初始化极紫外照明光源;基于初始化后的极紫外照明光源,生成多个离散光源点,并获取所述多个离散光源点分别对应的平面波;将极紫外掩模版的吸收体划分为多个横截面,将所述平面波作为第一个横截面的光场,依次计算多个横截面分别对应的光场,并基于所述多个横截面分别对应的光场获得吸收体输出光场;基于所述吸收体输出光场,获得多层膜反射后的输出光场;将极紫外掩模版划分为多个横截面,将所述多层膜反射后的输出光场作为第一个横截面的光场,依次计算多个横截面分别对应的光场,并基于所述多个横截面分别对应的光场获得极紫外掩模版散射近场;基于所述极紫外掩模版散射近场、低通滤波、离焦量、偏振像差、倾斜因子效应和放大倍率,获得空间像,以完成极紫外光刻部分相干成像建模。
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百度查询: 华中科技大学 极紫外光刻部分相干成像建模方法、装置和电子设备
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