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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：公开了一种用于光刻设备的掩模版台。该掩模版台包括：用于反射型掩模版的支撑件；和耦接到支撑件的至少一个遮蔽元件。该至少一个遮蔽元件能够在第一位置和第二位置之间选择性地配置，该第一位置用于遮蔽反射型掩模版的图案化侧的一部分免受辐射束照射，该第二位置用于曝光该部分。还公开了EUV光刻设备和操作EUV光刻设备的相应方法。
主权项：1.一种用于光刻设备的掩模版台，所述掩模版台包括：用于反射型掩模版的支撑件；和至少一个遮蔽元件，所述至少一个遮蔽元件耦接到所述支撑件，并能够在用于遮蔽所述反射型掩模版的图案化侧的一部分免受辐射束照射的第一位置和用于曝光所述部分的第二位置之间选择性地配置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 掩模版台
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