龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供能够抑制在等离子体生成部沉积膜的等离子体处理装置和等离子体处理方法。本发明的一个方式的等离子体处理装置包括：具有长度方向的处理容器；对上述处理容器内供给原料气体的原料气体供给部；等离子体分隔壁，其沿上述处理容器的长度方向设置，在内部形成等离子体生成空间，并具有使上述等离子体生成空间与上述处理容器内连通的开口；反应气体供给部，其能够对上述等离子体生成空间供给与上述原料气体反应的反应气体；和开闭上述开口的开闭部。
主权项：1.一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：具有长度方向的处理容器；对所述处理容器内供给原料气体的原料气体供给部；等离子体分隔壁，其沿所述处理容器的长度方向设置，在内部形成等离子体生成空间，并具有使所述等离子体生成空间与所述处理容器内连通的开口；反应气体供给部，其能够对所述等离子体生成空间供给与所述原料气体反应的反应气体；开闭所述开口的开闭部；和控制部，所述控制部构成为能够执行如下步骤：在用所述开闭部打开所述开口的状态下从所述反应气体供给部对所述等离子体生成空间供给所述反应气体的步骤；和在用所述开闭部关闭所述开口的状态下从所述原料气体供给部对所述处理容器内供给所述原料气体的步骤。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置和等离子体处理方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号