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申请/专利权人：安徽华创鸿度光电科技有限公司
摘要：本发明公开了一种基于增益子环的激光器自发辐射抑制方法及系统，涉及激光技术领域；通过实时监测目标增益子环中各主气腔的温度和气压，与预设数据匹配，得到目标调节方案；根据目标调节方案，计算辅助气腔的泵浦源功率，得到辅助调节方案；根据目标调节方案和辅助调节方案调节各气腔的气压和泵浦源功率。通过对气压和泵浦源功率进行动态调整，减小了热效应导致的自发辐射比例增大；使增益介质中的分子或原子被充分激发到高能级且不被过度激发，提高了受激辐射的比例，从而降低了自发辐射的比例。这样自发辐射在产生之初就得到了直接、有效的抑制，提高了增益介质对受激辐射的放大效率，提高了激光器的整体能量转换效率。
主权项：1.一种基于增益子环的激光器自发辐射抑制方法，其特征在于，所述方法包括：实时监测目标增益子环中各主气腔的温度和气压，作为目标信息；所述目标增益子环包括多个主气腔和一个辅助气腔，每个气腔配有独立的泵浦源；匹配所述目标信息与预设数据，得到目标调节方案；所述预设数据包括由实验测量得到的温度气压对照表；所述目标调节方案包括各主气腔的气压调节方案和各主气腔的泵浦源功率调节方案；根据所述目标调节方案，计算所述辅助气腔的泵浦源功率，得到辅助调节方案；根据所述目标调节方案调节各主气腔的气压和泵浦源功率，根据所述辅助调节方案调节所述辅助气腔的泵浦源功率；所述匹配所述目标信息与预设数据，得到目标调节方案包括：针对每一主气腔，根据预设的温度气压对照表，匹配该主气腔的温度，得到目标气压值；根据该主气腔的温度和所述目标气压值，计算该主气腔的气体密度；根据所述气体密度，计算该主气腔的目标泵浦源功率：TP＝fD其中，TP是所求目标泵浦源功率，D是所述气体密度；函数f根据所述气体密度，映射出使得工作气体被充分激发且不被过度激发的泵浦源功率；将各主气腔的目标气压值和目标泵浦源功率作为目标调节方案。
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