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申请/专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要：本申请提供一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法，涉及光学加工技术领域。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法包括：对光学晶体的表层进行全局缺陷扫描，以获取全局缺陷分布图；根据全局缺陷分布图确定关注缺陷的位置；对关注缺陷进行单点荧光检测，以获取荧光缺陷特征图，荧光缺陷特征图包含关注缺陷的荧光缺陷特征；对光学晶体上对应关注缺陷的位置处进行损伤性能测试，以获取损伤性能测试数据；对荧光缺陷特征和损伤性能测试数据进行关联计算，得到荧光缺陷特征与损伤性能之间的关联关系。该光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法能够全面表征元件表层缺陷特性，并反映出表层缺陷对光学晶体损伤性能的影响以及影响的权重比例。
主权项：1.一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法，其特征在于，包括：对光学晶体的表层进行全局缺陷扫描，以获取全局缺陷分布图；根据所述全局缺陷分布图确定关注缺陷的位置；对所述关注缺陷进行单点荧光检测，以获取荧光缺陷特征图，所述荧光缺陷特征图包含所述关注缺陷的荧光缺陷特征；根据所述荧光缺陷特征，获取所述关注缺陷的荧光光谱和荧光寿命曲线；对所述光学晶体上对应所述关注缺陷的位置处进行损伤性能测试，以获取损伤性能测试数据；对所述荧光光谱和所述损伤性能测试数据、所述荧光寿命曲线和所述损伤性能测试数据进行关联分析，得到所述荧光光谱与所述损伤性能、所述荧光寿命曲线与所述损伤性能之间的关联关系。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种光学晶体表层物理结构缺陷的评价方法
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