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申请/专利权人：江苏首芯半导体科技有限公司
摘要：公开了一种气体喷淋装置、气体喷淋组件和薄膜沉积腔体，所述气体喷淋装置包括：进气板，包括多个进气装置，每个所述进气装置上包括多个贯穿所述进气板的第一气孔，以使气体经所述第一气孔从所述进气板的第一表面到达所述进气板的第二表面；以及控制装置，与所述多个进气装置连接，用于控制所述进气装置按照预定方向和预定转速进行旋转，以控制所述气体的气流路径。本申请提供的气体喷淋装置及薄膜沉积腔体，通过气体喷淋装置上可以旋转的进气装置将反应气体均匀的带动到基片表面，从而提高基片上沉积的薄膜质量。
主权项：1.一种气体喷淋装置，其特征在于，包括：进气板，包括多个进气装置，每个所述进气装置上包括多个贯穿所述进气板的第一气孔，以使气体经所述第一气孔从所述进气板的第一表面到达所述进气板的第二表面；以及控制装置，与所述多个进气装置连接，用于控制所述进气装置按照预定方向和预定转速进行旋转，以控制所述气体的气流路径，其中，所述进气板还包括多个贯穿所述进气板的第二气孔，以使所述气体经所述第二气孔从所述进气板的第一表面到达第二表面，所述多个第二气孔均匀分布在各所述进气装置之外的区域；所述进气板分为多个区域，设置在同一所述区域内的各所述进气装置旋转的所述预定方向一致；和或设置在不同所述区域内的所述进气装置旋转的所述预定方向相同或不同。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏首芯半导体科技有限公司 气体喷淋装置、气体喷淋组件和薄膜沉积腔体
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