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申请/专利权人：合肥工业大学
摘要：本发明涉及液晶显示器件制备技术领域，尤其是一种反应离子刻蚀处理取向层控制液晶分子预倾角方法，将垂直取向的聚合物溶液旋涂在携带氧化铟锡薄膜的玻璃基板上，高温固化一定时间成取向膜，将制备的样品进行摩擦处理放在反应离子刻蚀设备中，对垂直取向层进行表面改性，对改性后的样品用紫外固化胶进行光固化贴合制成液晶盒，液晶盒内灌入液晶一制成液晶器件，将液晶二与黑色染料按一定比例混合再次灌入液晶盒制成宾主液晶器件。本发明直接对取向层表面改性，可以改变其润湿性，润湿性改变液晶分子的取向，通过表面改性处理，使受处理的取向层组成的液晶器件实现多种显示模式，同时选择性的刻蚀取向层，实现图案化液晶器件的形成。
主权项：1.一种反应离子刻蚀处理取向层控制液晶分子预倾角方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：将垂直取向的聚合物溶液旋涂在携带氧化铟锡薄膜的玻璃基板上，高温固化一定时间成取向膜；步骤S2：将步骤S1制备的样品进行摩擦处理放在反应离子刻蚀设备中，对垂直取向层进行表面改性，反应离子刻蚀能够改变取向层的表面形貌影响取向层的润湿性，从而控制液晶分子预倾角，对改性后的样品用紫外固化胶进行光固化贴合制成液晶盒；步骤S3：液晶盒内灌入液晶一制成液晶器件；将液晶二与黑色染料按一定比例混合再次灌入液晶盒制成宾主液晶器件；所述的聚合物溶液为聚酰亚胺溶液；在步骤S1中，旋涂的速度为1500-2500rpm，且旋涂的时间为1-3min；在步骤S1中，高温固化的温度为180-220℃，高温固化的时间为100-140min；在步骤S2中，所述的反应离子刻蚀设备的运行参数为5W，并在5W的条件下处理1-10s；在步骤S3中，所述的液晶二与黑色染料的质量比为95-100：1-3；刻蚀处理取向层制成的宾主液晶器件在低频交流电下，随着电压升高透过率逐渐上升；刻蚀处理取向层制成的宾主液晶器件在高频交流电下，随着电压升高透过率降低；掩模刻蚀处理取向层制成的图案化宾主液晶器件在不加电条件下，控制不同区域之间，液晶分子预倾角不同使透过率出现差异，器件中呈现图案；加入低频交流电，图案消失，透过率升高；加入高频交流电，图案消失，透过率降低。
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权利要求：
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