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申请/专利权人：无锡尚积半导体科技有限公司
摘要：本申请提供了一种磁控溅射用扇形磁铁结构以及磁控溅射设备，扇形磁铁结构包括：扇形底座、设置在扇形底座的第一部分上的第一安装组件、连接在第一安装组件中的第一磁铁组件、设置在扇形底座的第二部分上第二安装组件以及连接在第二安装组件中的第二磁铁组件，本申请可以调节产生的磁场的强度，从而适应不同靶材到衬底间距的磁控溅射，进而保证薄膜沉积的均匀性。
主权项：1.一种磁控溅射用扇形磁铁结构，安装在磁控溅射设备内，其特征在于，所述扇形磁铁结构包括：扇形底座，与所述磁控溅射设备连接，所述扇形底座包括相连的第一部分和第二部分，所述第一部分的半径小于所述第二部分的半径；第一安装组件，设置在所述第一部分上，包括沿不同半径的圆弧设置的至少一组第一安装孔和至少一组第二安装孔，所述第一安装孔所沿圆弧的半径大于所述第二安装孔所沿圆弧的半径，每一组的所述第一安装孔和每一组的所述第二安装孔的数量均为多个；第二安装组件，设置在所述第二部分上，包括沿不同半径的圆弧设置的至少一组第三安装孔和至少一组第四安装孔，所述第三安装孔所沿圆弧的半径小于所述第四安装孔所沿圆弧的半径，每一组的所述第三安装孔和每一组的所述第四安装孔的数量均为多个；其中，所述第一安装孔、所述第二安装孔、所述第三安装孔和所述第四安装孔所形成圆弧的圆心为所述扇形底座的中心点；第一磁铁组件，包括连接在所述第一安装孔中的至少一组第一磁柱和连接在所述第二安装孔中的至少一组第二磁柱，所述第一磁柱和所述第二磁柱向外的磁极的磁性相反；第二磁铁组件，包括连接在所述第三安装孔中的至少一组第三磁柱和连接在所述第四安装孔中的至少一组第四磁柱，所述第三磁柱和所述第四磁柱向外的磁极的磁性相反；其中，所述第一磁柱与所述第四磁柱的向外的磁极的磁性相同，所述第二磁柱与所述第三磁柱的向外的磁极的磁性相同。
全文数据：
权利要求：
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