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一种顶栅结构场效应晶体管 

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申请/专利权人:郑州炜盛电子科技有限公司

摘要:本实用新型提出了一种顶栅结构场效应晶体管,包括基底、设置在基底上的漏极和源极,基底上设有介质层,介质层上设有敏感栅极,所述基底上还设有分别与漏极、源极和敏感栅极连接的引线焊盘。本实用新型采用硅平面工艺制作,既相比沟槽型埋栅结构,工艺简化,又具有低功耗、高灵敏、易集成的特点,工艺简化,成本降低,满足清洁能源领域对特定环境的氢气检测需求;本实用新型镀钯的敏感栅极使得场效应晶体管工作在亚阈值区,可以极大提升传感器灵敏度,并且通过自身场效应晶体管的放大作用,使得输出信号更加稳定。

主权项:1.一种顶栅结构场效应晶体管,其特征在于:包括基底(101)、设置在基底(101)上的漏极(102)和源极(103),基底(101)上设有介质层(104),介质层(104)上设有敏感栅极(105);所述基底(101)上还设有分别与漏极(102)、源极(103)和敏感栅极(105)连接的引线焊盘(106)。

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