首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

用于光栅电子束曝光设备的监测掩模版 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:上海凸版光掩模有限公司

摘要:本实用新型提供一种用于光栅电子束曝光设备的监测掩模版,包括:掩模版;多个监测图案组,多个监测图案组设置于掩模版上,其中,多个监测图案组排布成包含正交的多行和多列的阵列,每个监测图案组包括间隔排布的多个监测图案,多个监测图案的尺寸依次递减,分别用于监测束斑直径依次递减的电子束,监测图案包括沿行方向延伸的第一矩形图案和沿列方向延伸的第二矩形图案,第一矩形图案和第二矩形图案相交成十字形图案。本实用新型仅需通过改变曝光的电子束束斑,可以通过同一块监测掩模版同时得到多种曝光束斑情形下的曝光状况,不需要重复更换不同的掩模版,从而大大节省监测的步骤和成本。

主权项:1.一种用于光栅电子束曝光设备的监测掩模版,其特征在于,所述监测掩模版包括:掩模版;多个监测图案组,多个所述监测图案组设置于所述掩模版上,其中,多个所述监测图案组排布成包含正交的多行和多列的阵列,每个所述监测图案组包括间隔排布的多个监测图案,多个所述监测图案的尺寸依次递减,分别用于监测束斑直径依次递减的电子束,所述监测图案包括沿行方向延伸的第一矩形图案和沿列方向延伸的第二矩形图案,所述第一矩形图案和第二矩形图案相交成十字形图案。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海凸版光掩模有限公司 用于光栅电子束曝光设备的监测掩模版

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

相关技术
相关技术
相关技术
相关技术