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申请/专利权人：金耀真空设备(中山)有限公司
摘要：本实用新型公开了一种具有独立阳极的镀膜设备，包括有镀膜腔体，镀膜腔体内设有腔室，腔室内设有用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的直流磁控溅射旋转阴极，以及设置于直流磁控溅射旋转阴极上侧用于带动基材运动的基材滚动支架，腔室内设有围绕直流磁控溅射旋转阴极左侧、下侧和右侧设置的独立阳极组件，独立阳极组件与直流磁控溅射旋转阴极之间留有空隙且独立阳极组件吸收该空隙间的带电粒子，通过独立阳极组件吸收该空隙间的带电粒子，有效地防止溅射物大量积聚到腔室及绝缘件上而出现短路、掉渣、崩渣等影响设备正常运行和产品品质的状况。
主权项：1.一种具有独立阳极的镀膜设备，其特征在于：包括有镀膜腔体1，镀膜腔体1内设有腔室2，腔室2内设有用于受带电粒子碰撞后向外溅射靶材粒子的直流磁控溅射旋转阴极3，以及设置于直流磁控溅射旋转阴极3上侧用于带动基材8运动的基材滚动支架4，腔室2内设有围绕直流磁控溅射旋转阴极3左侧、下侧和右侧设置的独立阳极组件5，独立阳极组件5与直流磁控溅射旋转阴极3之间留有空隙且独立阳极组件5吸收该空隙间的带电粒子。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 金耀真空设备(中山)有限公司 一种具有独立阳极的镀膜设备
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