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申请/专利权人：艾斯尔光电(南通)有限公司
摘要：本实用新型提供一种高强度晶圆光刻掩膜版，属于光刻掩膜版技术领域，以解决在光刻掩膜版的反复使用过程中，每次使用前和使用完毕后都需要操作人员对掩膜版进行拿取和存放，操作较为不便问题，包括支撑辅助架，掩膜版主体固定连接在支撑辅助架的内侧；两个防护架左右对称往复滑动设置在支撑辅助架的外侧；两组驱动辅助结构分别设置在支撑辅助架下方的前后两侧；两组间距控制机构分别设置在两个驱动架与防护架之间；增阻辅助结构设置在两个防护架的内侧端面；简化了本实用新型在实际应用过程中的操作步骤，提高了本实用新型的使用便捷度，同时还避免了工作人员手部与掩膜版主体的直接接触，减缓了对掩膜版主体表层造成的污染和划痕的产生。
主权项：1.一种高强度晶圆光刻掩膜版，包括支撑辅助架、掩膜版主体、两个防护架、两组驱动辅助结构、两组间距控制机构和增阻辅助结构，其特征在于：所述支撑辅助架的前后两侧开设有导向通槽；所述掩膜版主体固定连接在支撑辅助架的内侧；两个所述防护架左右对称往复滑动设置在支撑辅助架的外侧，防护架的内端为空腔结构；两组所述驱动辅助结构分别设置在支撑辅助架下方的前后两侧，所述驱动辅助结构包括有：驱动架，所述驱动架滑动设置在支撑辅助架下方的前后两侧；两组所述间距控制机构分别设置在两个驱动架与防护架之间，间距控制机构包括有：两组第一连杆，两组所述第一连杆分别铰接在驱动架顶部端面的左右两侧；所述增阻辅助结构设置在两个防护架的内侧端面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 艾斯尔光电(南通)有限公司 一种高强度晶圆光刻掩膜版
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