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申请/专利权人：艾斯尔光电(南通)有限公司
摘要：本实用新型提供一种晶圆光刻掩膜版，属于半导体制造技术领域，以解决现有的需要定期对掩膜版进行清洗，频繁对掩膜版清洗，容易影响掩膜版的使用的问题，包括掩膜版边框、掩膜版主体、掩膜版防尘滑块、防护支撑齿条、防护固定件、防尘保护机构和防坠保护机构；所述掩膜版主体固定连接在掩膜版边框的中间位置；所述防护支撑齿条分别滑动连接在掩膜版边框的四角处；所述防护固定件均为半圆球状橡胶结构，四组防护固定件分别固定连接在防护支撑齿条的上端；所述防尘保护机构设置在掩膜版边框的内部；所述防坠保护机构设置在掩膜版边框的外侧，减少了掩膜版的清洗次数，减少了对掩膜版的损害，延长了掩膜版的使用寿命。
主权项：1.一种晶圆光刻掩膜版，包括掩膜版边框1、掩膜版主体2、掩膜版防尘滑块3、防护支撑齿条4、防护固定件5、防尘保护机构和防坠保护机构；所述掩膜版主体2固定连接在掩膜版边框1的中间位置；其特征在于：所述掩膜版防尘滑块3共设置两组，两组掩膜版防尘滑块3分别滑动连接在掩膜版边框1的内侧；所述防护支撑齿条4共设置四组，四组防护支撑齿条4分别滑动连接在掩膜版边框1的四角处；所述防护固定件5共设置四组，四组防护固定件5均为半圆球状橡胶结构，四组防护固定件5分别固定连接在防护支撑齿条4的上端；所述防尘保护机构设置在掩膜版边框1的内部；所述防坠保护机构设置在掩膜版边框1的外侧。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 艾斯尔光电(南通)有限公司 一种晶圆光刻掩膜版
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