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申请/专利权人:中芯微(周口)半导体有限公司
摘要:本实用新型公开了一种半导体制造用湿法氧化装置,涉及半导体技术领域,具体为包括工作架和安装架,所述工作架的上表面与安装架固定连接,所述工作架的上表面转动连接有转盘,所述转盘的上表面固定连接有固定杆,所述固定杆的一侧固定连接有固定架,所述转盘的上表面开设有放置槽,所述放置槽的上表面设置有反应盒,所述安装架的上表面固定安装有第一电机,所述第一电机的输出端固定连接有螺纹杆。该半导体制造用湿法氧化装置,可以通过固定架、外壳、移动板、固定杆、限位板、弹簧、连接板和防护板之间的配合设置,再将反应盒安装到固定架内之后,通过弹簧的弹性带动防护板对反应盒进行加持固定,从而起到了固定的作用。
主权项:1.一种半导体制造用湿法氧化装置,包括工作架(1)和安装架(2),其特征在于:所述工作架(1)的上表面与安装架(2)固定连接,所述工作架(1)的上表面转动连接有转盘(3),所述转盘(3)的上表面固定连接有固定杆(4),所述固定杆(4)的一侧固定连接有固定架(5),所述转盘(3)的上表面开设有放置槽(6),所述放置槽(6)的上表面设置有反应盒(7),所述安装架(2)的上表面固定安装有第一电机(8),所述第一电机(8)的输出端固定连接有螺纹杆(9),所述螺纹杆(9)的外表面螺纹连接有螺纹板(10),所述螺纹板(10)的一侧与安装架(2)滑动连接。
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