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申请/专利权人：理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司
摘要：本申请涉及薄膜沉积领域，提供一种防护设备，防护设备包括遮挡组件、移动组件以及密封罩，遮挡组件具有第一部和第二部，第一部适于遮挡进出料通道前端，半导体薄膜沉积设备侧壁上还设有第一开口，第二部适于贯通第一开口；移动组件连接第二部并驱动第一部移动，使得第一部能够遮挡或远离进出料通道前端；密封罩可伸缩地密封连接第一开口和移动组件，第二部的部分位于密封罩内。本申请的一种防护设备，薄膜沉积过程中，第一部会遮挡在进出料通道前端，既能防止薄膜沉积设备腔内的气流进入进出料通道，确保腔内气流均匀；又能防止溅射粒子进入进出料通道，避免溅射粒子在进出料通道内沉积；还能起到隔热作用，提高进出料通道和阀门的使用寿命。
主权项：1.一种防护设备，用于遮挡半导体薄膜沉积设备的进出料通道前端，所述进出料通道末端设有阀门,其特征在于，包括：遮挡组件，所述遮挡组件具有第一部和第二部，所述第一部适于遮挡所述进出料通道前端，所述半导体薄膜沉积设备侧壁上还设有第一开口，所述第二部适于贯通所述第一开口；移动组件，所述移动组件连接所述遮挡组件的所述第二部并驱动所述遮挡组件的所述第一部移动，使得所述第一部能够遮挡或远离所述进出料通道前端，所述移动组件相对位于所述半导体薄膜沉积设备外侧；密封罩，所述密封罩可伸缩地密封连接所述第一开口和所述移动组件，所述第二部的部分相对位于所述密封罩内。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 理想晶延半导体设备(上海)股份有限公司 一种防护设备
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