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申请/专利权人：上海凸版光掩模有限公司
摘要：本实用新型提供一种用于校正套准测量设备的标准掩模版，包括：掩模版；多个校准图案，多个所述校准图案设置于所述掩模版上，其中，多个所述校准图案排布成包含正交的多行和多列的阵列，校准图案包括沿行方向延伸的第一矩形图案和沿列方向延伸的第二矩形图案，第一矩形图案和第二矩形图案相接成T字形图案；多个校准图案为掩模版的透光区域，多个校准图案之外的区域为掩模版的遮光区域。本实用新型的标准掩模版可以实现对套准测量设备的实际情况进行校正，从而调整和提高对套准测量设备的准确度和使用精度。
主权项：1.一种用于校正套准测量设备的标准掩模版，其特征在于，所述标准掩模版包括：掩模版；多个校准图案，多个所述校准图案设置于所述掩模版上，其中，多个所述校准图案排布成包含正交的多行和多列的阵列，所述校准图案包括沿行方向延伸的第一矩形图案和沿列方向延伸的第二矩形图案，所述第一矩形图案和第二矩形图案相接成T字形图案；多个所述校准图案为所述掩模版的透光区域，多个所述校准图案之外的区域为所述掩模版的遮光区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海凸版光掩模有限公司 用于校正套准测量设备的标准掩模版
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