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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：本发明提供用于使用氯硅烷和氨基硅烷前体形成硅氧化物的方法和装置。
主权项：1.一种用于处理衬底的方法，所述方法包含：导入具有特征的衬底；将所述衬底暴露于含硅前体达到足以吸附至少一些含硅前体至所述衬底的表面的持续时间；在未点燃等离子体的情况下将所述衬底的所述表面暴露于含氧气体以形成硅氧化物膜；以及将所述硅氧化物膜退火以形成经退火的硅氧化物膜，其中所述含硅前体选自由卤硅烷前体和氨基硅烷前体组成的群组。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 使用氨基硅烷和氯硅烷前体的保形硅氧化物沉积
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