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申请/专利权人：三星电子株式会社;株式会社东进世美肯
摘要：提供稀释剂组合物和通过使用所述稀释剂组合物处理基板表面的方法，所述稀释剂组合物可普遍用于极紫外EUV光致抗蚀剂以及KrF和ArF光致抗蚀剂并且在减胶涂覆RRC和边缘珠状物除去EBR方面呈现出改善的性能并且具有优异的管道清洁能力。所述稀释剂组合物包括C2‑C4亚烷基二醇C1‑C4烷基醚乙酸酯、C2‑C3亚烷基二醇C1‑C4烷基醚、和环酮。
主权项：1.稀释剂组合物，包括：C2-C4亚烷基二醇C1-C4烷基醚乙酸酯；C2-C3亚烷基二醇C1-C4烷基醚；和环酮。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 株式会社东进世美肯 稀释剂组合物和通过使用其处理基板表面的方法
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