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申请/专利权人：北京微电子技术研究所;北京时代民芯科技有限公司
摘要：平面工艺的敏感区沉积能量叠层仿真标定方法，属于核物理和集成电路工艺技术领域，包括：首先根据实际平面工艺电路结构构建金属层、栅氧化层、沟道等不同结构的简化模型，并在敏感区域设置沉积能量的采集探针，接着采用钴源、电子、质子等粒子源对结构进行照射，读取探针的值，最后对数据进行处理获得预设敏感区域的平均剂量值。本发明能提供准确的敏感区域能量沉积评估值，而使用仿真构建模型可避免直接试验导致的复杂分析过程。同时对仿真模型进行模块化处理可简化模型构建过程，同时对关键模块的精细处理可以保证相对较高的测量精度。
主权项：1.平面工艺的敏感区沉积能量叠层仿真标定方法，其特征在于，包括：根据实际平面工艺电路结构构建结构模型，并在预设敏感区域设置沉积能量的采集探针；采用仿真粒子源对结构模型进行照射，读取采集探针值；对采集探针值进行处理获得预设敏感区域的平均剂量值，根据平均剂量值对预设敏感区域总剂量进行标定。
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权利要求：
百度查询： 北京微电子技术研究所 北京时代民芯科技有限公司 平面工艺的敏感区沉积能量叠层仿真标定方法
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