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正型剥离抗蚀剂组合物及使用其来制造抗蚀剂图案的方法 

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申请/专利权人:默克专利有限公司

摘要:[问题]本发明提供一种正型剥离抗蚀剂组合物。[解决方案]一种正型剥离抗蚀剂组合物,其包含具有特定的结构且cLogP为2.76~3.35的聚合物A、光酸产生剂B、及溶剂C。

主权项:1.一种正型剥离抗蚀剂组合物,其包含聚合物A、光酸产生剂B及溶剂C:其中,聚合物A的cLogP为2.76~3.35,聚合物A包含式A-1~A-4所示的重复单元中的至少一个,并且相对于100质量份聚合物A,溶解速度调节剂D的含量为0~1.0质量份,溶解速度调节剂D由式D-1所示, 其中,R11、R21、R41及R45各自独立地为C1-5烷基,其中,烷基中的-CH2-可被-O-替换;R12、R13、R14、R22、R23、R24、R32、R33、R34、R42、R43、及R44各自独立地为氢、C1-5烷基、C1-5烷氧基、或-COOH;p11为0~4,p15为1~2,p11+p15≤5,p21为0~5,p41为0~4,p45为1~2,p41+p45≤5;P31为C4-20烷基,其中,烷基的一部分或全部可形成环,烷基的一部分或全部H可被卤素取代; 式D-1中,nd1各自独立地为1、2或3,nd2各自独立地为0、1、2或3,Rd1各自独立地为C1-7烷基,Ld为C1-15的二价的亚烷基,其上可取代有可选地被羟基取代的芳基,也可与Ld以外的取代基形成环。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 默克专利有限公司 正型剥离抗蚀剂组合物及使用其来制造抗蚀剂图案的方法

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